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首页 >> 公司动态 >> 椭偏仪及等离子刻蚀应用研讨会
  椭园偏振膜厚测量仪及等离子刻蚀应用研讨会
    2004年11月18日利方达同德国森泰科仪器公司(Sentech Instruments)联合在北京外国专家管理局举办了"椭偏仪及等离子刻蚀应用研讨会".来自北京,天津的10多家高校,研究院所及企业的50多名专家,学者和工程师同德国森泰科仪器公司的GRUSKA博士以及利方达有限公司(香港)钱锋博士,北京利方达真空技术有限公司的方立武高级工程师进行了广泛深入的技术交流及讨论.

部分研讨会资料

A. 椭园偏振膜厚测量应用

B. 等离子刻蚀及沉积工艺过程的原位监测

 

研讨会照片
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