公司介绍
|
业务范围
|
人才招聘
|
公司动态
|
联系我们
|
English

Beyond
超越:领先一步的技术,领先一步的思想,不断的学习, 不断的超越。
Cooperative
协作:成功来自于协作,而不是竞争。个人能力只有通过团队才能得以体现。
Efficient
高效:以高效简化我们的工作,以高效保证我们的领先。
Open
开放:开放的同事关系,开放的客户关系,开放的竞争关系。
产品列表

原子源"RF-OSPrey" Atom Source

13.56 MHz射频感应等离子体方式

独特的同轴式结构:易于在任何真空系统上安装

无灯丝设计: 允许在反应气体气氛下工作如O2,Cl, N2, H2.

整体式水冷却结构: 极小的对系统热负荷

典型应用:

N2环境等离子体

氮化处理: GaN, AlN, InN, SiN

掺杂: ZnSe

合金化: GaAlAsN

清洗

生长加强/活性在线刻蚀

O2环境等离子体

氧化生长: HTc 超导体, 光学薄膜, 介质膜, 陶瓷膜等的生长, Al2O3

反应离子溅射, 激光脱附

氧等离子体清洗及氧化动力学研究

后生长低温氧化: SiO2

H2环境等离子体

氢等离子清洗

甲烷环境等离子体

SiC生长

厂商列表:

 

 

版权所有: 北京利方达真空技术有限责任公司